天和磁材取得钕铁硼氢碎法相关专利，钕铁硼合金氢碎法可提矫顽力且不影响剩磁

4月28日消息，国家知识产权局信息显示，包头天和磁材科技股份有限公司申请一项名为“钕铁硼合金的氢碎方法及钕铁硼磁体的制备方法”的专利，授权公告号CN114284020B，授权公告日为2026年4月21日。申请公布号为CN114284020A，申请号为CN202210046985.6，申请公布日期为2026年4月21日，申请日期为2022年1月14日，发明人李志强、张秀琪、刁树林、董义、吴树杰、武志敏、袁易、陈雅、袁文杰，专利代理机构北京悦成知识产权代理事务所（普通合伙），专利代理师樊耀峰、安平，分类号H01F1/057、H01F41/02。

专利摘要显示，本发明公开了一种钕铁硼合金的氢碎方法。该方法包括如下步骤：（1）将钕铁硼合金片第一次吸氢，然后第一次脱氢，冷却，得到预氢碎钕铁硼；其中，所述预氢碎钕铁硼的氢含量为1800ppm以上；（2）将预氢碎钕铁硼第二次吸氢，然后第二次脱氢，冷却，得到钕铁硼粗粉。该方法能够提高钕铁硼磁体的矫顽力，且不会影响剩磁。本发明还公开了一种钕铁硼磁体的制备方法。