宁波元辰新材料申请钕铁硼磁体复合改性方法专利，在钕铁硼磁体内部形成钝化膜提高耐蚀性能

专利摘要显示，本发明公开了一种钕铁硼磁体复合改性方法，包括以下步骤：S1，制备改性钕铁硼基体，所述钕铁硼基体中包括0.13~0.18wt%的Ga和0.08~1.02wt%的Cu；S2，磁控溅射沉积双合金扩散源，靶材为Dy‑Ho双合金靶材，其中Dy与Ho的原子比为1:1；S3，短时高温真空扩散，升温至920~980℃，保温时间30min，进行480~520℃×3h的二级时效处理，随后气淬冷却，制得钕铁硼磁体；S4，采用化学镀或电镀工艺，在钕铁硼磁体表面沉积高磷镍镀层，以实现在保证扩散深度的前提下，缩短重稀土扩散时间，降低能耗；在保证高矫顽力的同时降低昂贵Dy的使用量；在钕铁硼磁体内部形成钝化膜提高耐蚀性能。