中科三环申请永磁体局部区域退磁专利,实现永磁体局部退磁
时间:2024-11-20 10:35:00 来源:宁波市磁性材料商会
国家知识产权局信息显示,北京中科三环高技术股份有限公司申请一项名为永磁体的局部区域的退磁方法、装置及磁体的专利,公开号CN 11888825
国家知识产权局信息显示,北京中科三环高技术股份有限公司申请一项名为“永磁体的局部区域的退磁方法、装置及磁体”的专利,公开号CN 118888256 A,申请日期为2024年9月。
专利摘要显示,本申请提供了一种永磁体的局部区域的退磁方法、装置及磁体。该退磁方法,包括:将退磁线圈靠近所述永磁体的局部区域放置,其中所述退磁线圈包括上线圈和下线圈,所述上线圈靠近所述局部区域的上方,所述下线圈靠近所述局部区域的下方;以及向所述退磁线圈通入电流,以产生与所述局部区域的磁化方向呈预定角度的退磁场,其中所述上线圈和所述下线圈所产生的磁场方向相同。
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